JPH0328066B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0328066B2 JPH0328066B2 JP60286747A JP28674785A JPH0328066B2 JP H0328066 B2 JPH0328066 B2 JP H0328066B2 JP 60286747 A JP60286747 A JP 60286747A JP 28674785 A JP28674785 A JP 28674785A JP H0328066 B2 JPH0328066 B2 JP H0328066B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- indium
- layer
- crystal semiconductor
- mixed crystal
- semiconductor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60286747A JPS62145779A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 電界効果トランジスタ |
EP86117164A EP0228624B1 (en) | 1985-12-19 | 1986-12-09 | field effect transistor |
US06/939,716 US4764796A (en) | 1985-12-19 | 1986-12-09 | Heterojunction field effect transistor with two-dimensional electron layer |
DE8686117164T DE3688318T2 (de) | 1985-12-19 | 1986-12-09 | Feldeffekttransistor. |
CA000525579A CA1247755A (en) | 1985-12-19 | 1986-12-17 | Field effect transistor |
KR1019860010809A KR900000073B1 (ko) | 1985-12-19 | 1986-12-17 | 전계효과트랜지스터 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60286747A JPS62145779A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 電界効果トランジスタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62145779A JPS62145779A (ja) | 1987-06-29 |
JPH0328066B2 true JPH0328066B2 (en]) | 1991-04-17 |
Family
ID=17708507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60286747A Granted JPS62145779A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 電界効果トランジスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62145779A (en]) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2672180B2 (ja) * | 1990-05-23 | 1997-11-05 | シャープ株式会社 | ▲iii▼―v族化合物半導体装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2492167A1 (fr) * | 1980-10-14 | 1982-04-16 | Thomson Csf | Transistor a effet de champ a frequence de coupure elevee |
-
1985
- 1985-12-19 JP JP60286747A patent/JPS62145779A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62145779A (ja) | 1987-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4471366A (en) | Field effect transistor with high cut-off frequency and process for forming same | |
US5093275A (en) | Method for forming hot-carrier suppressed sub-micron MISFET device | |
JPH03775B2 (en]) | ||
JPH11354541A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
KR920003799B1 (ko) | 반도체 장치 | |
KR900000073B1 (ko) | 전계효과트랜지스터 | |
JP2746482B2 (ja) | 電界効果型トランジスタ及びその製造方法 | |
KR100198309B1 (ko) | 쇼트키 접합을 포함하는 반도체 장치 | |
JP3221901B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH0328066B2 (en]) | ||
JP2710309B2 (ja) | ヘテロ接合電界効果トランジスタ | |
JP3034546B2 (ja) | 電界効果型トランジスタの製造方法 | |
JP2548801B2 (ja) | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 | |
JP3653652B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH0797638B2 (ja) | 電界効果トランジスタ | |
JPH0523497B2 (en]) | ||
JP3407926B2 (ja) | ドーピング方法、半導体装置、抵抗層、電界効果型トランジスタの製造方法、半導体回路素子の製造方法、電気伝導領域の作製方法、量子細線の形成方法、量子箱の形成方法、量子細線トランジスタ、半導体集積回路の製造方法、電子波干渉素子 | |
JP2695832B2 (ja) | ヘテロ接合型電界効果トランジスタ | |
JP2911075B2 (ja) | 電界効果トランジスタ | |
JP2616032B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
JP3300189B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH03280552A (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
JP2867422B2 (ja) | 電界効果型トランジスタ及びその製造方法 | |
JPH01155665A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH07153779A (ja) | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |